详细介绍
靶材 Sputtering Target
铜靶Cu,铟靶In,锗靶Ge,硒靶 Se,铜锌靶 Cu-Zn,铝铜靶Al-Cu,铜镓靶 Cu-Ga,铜铟靶 Cu-In,铜铟镓靶Cu-In-Ga,铟锡靶 In-Sn,铜锡靶Cu-Sn,铜铟镓硒靶CuInGaSe,铜锌锡硫靶 CuZnSnS,碲化镉靶CdTe,碲化铋靶 Bi2Te3,碲化锑靶 Sb2Te3,碲化锌靶 ZnTe,碲化铜靶 CuTe,碲化铅靶 PbTe,碲化铟靶 InTe,碲化锡靶 SnTe,硒化镓靶 Ga2Se3,硒化铟靶 In2Se3,硒化铋靶 Bi2Se3,硒化亚铜靶 Cu2Se,硒化铜靶 CuSe,硒化锌靶 ZnSe,二氧化锡靶SnO2,硫化镉靶 CdS,硫化锌靶ZnS,二硫化钼靶MoS2,硫化铟靶 In2S3,硫化镓靶 Ga2S3,二硫化锗靶 GeS2,锑化铟靶 InSb,锑化镉靶 CdSb,锑化镓靶 GaSb,氧化镓靶Ca2O3,氧化铟靶 In2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),等等。
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