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基于285nm二氧化硅基底的单层氮化硼薄膜

简要描述:Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack
Properties of BN film
97% coverage with minor holes and organic residues
High Crystalline Quali

  • 更新时间:2024-06-03
  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 访  问  量:1228

详细介绍

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack

Properties of BN film

97% coverage with minor holes and organic residues

High Crystalline Quality

The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

 


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